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6.781J/2.391J 亚微米和纳米技术,2006春季

A nanofabricated electron-beam lithograph.

Bryan Cord 采用纳米技术制造了这个图案,展现了利用电子束光刻技术可以达到的精密的分辨率。该课程 将描述和解释实现该制造工艺的原理。(承蒙来自麻省理工学院的 量子纳米结构和纳米加工组的Bryan Cord提供照片。)

课程特点

该课程包括一系列完整的 作业 和演示 录像

课程简介

该课程考察了用于制造和分析亚微米和纳米结构的技术及其应用,探讨了光学和电子显微术。 附属的论题还包括:表面特征描述、表面准备和测量技术,抗蚀技术,光学投影,干涉仪,X射 线、离子和电子光刻技术;湿法、离子及等离子体刻蚀技术;剥离技术和电镀以及离子注入。同 时也对其在微电子,微光电,信息存储和纳米技术中的应用进行了探讨。

致谢

本课程教师感谢Bob Barsotti,Bryan Cord和Ben Wunsch在原子力显微镜录像方面所做的工 作,同样感谢Bryan Cord制作了每个录像。

技术要求

需要特定的软件才能使用包含在课程中的某些文件:.mov.

 

师资

授课教师:
Prof. George Barbastathis
Prof. Karl Berggren
Prof. Henry Smith

课程安排

讲座:
2 节/星期
1.5 小时/节

课程级别

研究生

附属功能

课程下载

翻译

周长见 在读博士 微电子与固体电子学
zhoucj07@mails.tsinghua.edu.cn

清华大学

审校

阮文州 在读博士 微电子与固体电子学
macrorwzh@gmail.com

清华大学

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